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泰思肯MIRA通用分析型高分辨場發(fā)射掃描電鏡

發(fā)布時(shí)間:2024-04-08

產(chǎn)品型號(hào):TESCAN MIRA

產(chǎn)品特點(diǎn):泰思肯MIRA通用分析型高分辨場發(fā)射掃描電鏡
TESCAN MIRA 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場發(fā)射電子槍,在TESCAN 的 Essence™ 操作軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn)了 SEM 成像和實(shí)時(shí)元素分析。這種結(jié)合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過程,從而使得MIRA 成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測的有效分析解決方案。

TESCAN MIRA泰思肯MIRA通用分析型高分辨場發(fā)射掃描電鏡的詳細(xì)資料:

泰思肯MIRA通用分析型高分辨場發(fā)射掃描電鏡

       泰思肯MIRA通用分析型高分辨場發(fā)射掃描電鏡,配置有高亮度肖特基場發(fā)射電子槍,在TESCAN 的 Essence™ 操作軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn)了 SEM 成像和實(shí)時(shí)元素分析。這種結(jié)合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過程,從而使得MIRA 成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測的有效分析解決方案。

 

突出特點(diǎn)

 

   *集成的 TESCAN Essence™ EDS 分析平臺(tái),可在 Essence™ 軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn) SEM 成像和實(shí)時(shí)元素分析;

   TESCAN *的無光闌光路設(shè)計(jì)及實(shí)時(shí)電子束追蹤技術(shù)(In-flight Beam Tracing™),可快速獲得的成像和分析條件;

   *的大視野光路(Wide Field Optics™)設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)小放大倍率低至2倍,因而無需額外的光學(xué)導(dǎo)航相機(jī),即可輕松、對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航;

   標(biāo)配的 SingleVac™ 模式,不導(dǎo)電樣品或電子束敏感樣品無需噴鍍即可在此模式下直接進(jìn)行觀察;

 

   直觀的模塊化 Essence™ 軟件,無論用戶的經(jīng)驗(yàn)水平如何,均可輕松操作;

    Essence™ 3D 防碰撞模型,可確保樣品臺(tái)和樣品移動(dòng)時(shí),安裝在樣品室內(nèi)探測器的安全性;

   可選配的鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測器,以及電子束減速技術(shù),更好的提升了低電壓下的成像性能;

   標(biāo)準(zhǔn)分析平臺(tái),可選配集成多種類的探測器和附件(如陰極熒光探測器,水冷背散射電子探測器等)。

 

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